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od体育官网在线下载:光刻机国产化又进一步!国产光刻机指日可待。

日期: 2022-10-01 10:18:40 来源:od最新版 作者:od下载

  光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统等,是生产大规模集成电路的核心设备。因其重要性与制造和维护需要高度的光学和电子工业基础,目前世界上只有少部分厂家掌握,分别是:荷兰ASML公司、尼康、佳能、欧泰克、上海微电子装备、SUSS、ABM, Inc.

  根据世界科技进程,想要实现国产化光刻机,必须研制出7nm及以下制程的芯片,而想要研制7nm及以下的光刻机就必须是EUV光刻机。AMSL公司曾在发言中讽刺: 中国人即便是得到了EUV光刻机图纸,也造不出来。AMSL公司制造的EUV光刻机,所需元器件超10万,需要来自不同的35个国家5000多家企业,可见光刻机制造险阻之多。

  在我国不断加大投入与各企业科研团队的努力下, 我国陆续掌握了双工件台和EUV光源系统等关键技术。除此之外北京大学电子显微镜实验室高鹏研究员研究组成功掌握了扫描透射电子显微镜技术。与传统的谱学手段相比,更具准确性、灵活性,未来的发展空间更大。这也证明了我国研制光镜制程技术精度更高!

  除了这一好消息外,香港城市大学电机工程系教授蔡定平团队近期一项工作的研究,其研发出一款新型真空紫外光超构透镜,可用于半导体制作、光化学、材料科学等,所产生的聚焦真空紫外光源,也能广泛用于微纳光刻等高端工业领域。未来延伸到更短波长之后,可用于光刻机。

  无论是华为的5G技术,麒麟芯片,还是各厂商自研的种种功能性芯片。都一步一步向前迈去,任何人、国家都阻止不了我国科研团队及企业的决心。相信在不远的明天我国高端光刻机就会问世。

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